切換到寬版
  • 廣告投放
  • 稿件投遞
  • 繁體中文
    • 4179閱讀
    • 2回復

    [分享]常見的光學薄膜制備方法及應用 [復制鏈接]

    上一主題 下一主題
    離線gangzi0801
     
    發帖
    964
    光幣
    12456
    光券
    0
    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發表于: 2022-05-19
    — 本帖被 ouyuu 設置為精華(2022-05-21) —
    關鍵詞: 光學薄膜
    從20世紀30年代開始,光學薄膜逐漸被廣泛應用于日常生活、工業、天文學、軍事、宇航、光通信等領域,在國民經濟和國防建設中起到了重大作用,因而得到了科學技術工作者的日益重視。而今新興技術的發展對薄膜技術不斷提出新的要求,又進一步促使了光學薄膜技術的蓬勃發展。所以近年來,對光學薄膜的研究及其應用一直是非;钴S的課題。 ' [ 4;QYw  
    Q6@<7E]y  
    一、光學薄膜的制備方法 yLX $SR  
    EiW|+@1  
    在光學薄膜發展的歷程中,各種先進的薄膜制備技術不斷應用到光學薄膜制備的技術中。這些技術不僅大大拓寬了光學薄膜可以利用的材料范圍,而且極大地改進了光學薄膜的性能和功能,進而給光學薄膜提供了更為寬廣深遠的發展空間。下面介紹幾種常見的光學薄膜制備方法。 R2~Tr$:  
    4]y)YNQ(  
    1.物理氣相沉積法 #.bW9j/  
    #&&T1;z"#  
    物理氣相沉積法簡單地說,在真空條件下,采用物理方法,將材料源—固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。 發展到目前,物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。之所以選擇高真空環境是因為薄膜材料在沉積的過程中不會與空氣中的活潑氣體反應,以及蒸汽分子在真空環境中不會與氣體分子碰撞,而是直接地到達基片。在實際薄膜沉積的過程中,需要控制的工藝參數非常多,通常涉及到真空技術、材料科學、精密機械制造、光電技術、計算機技術、自動控制技術等領域。 7^q~a(j  
    L_8zZ8 o  
    2.離子束輔助沉積法 _IDZ.\'>$  
    6Xlzdt  
    離子束輔助沉積法是在氣相沉積鍍膜的同時,利用高能粒子轟擊薄膜沉積表面,對薄膜表面環境產生影響,從而改變沉積薄膜成分、結構的過程。這種把離子輔助與反應蒸發法結合起來的鍍膜技術能夠實現低溫成膜,改善薄膜的微觀結構、力學性能并且提高薄膜和基體的結合力,從而提高薄膜的綜合性能。但由于離子束轟擊基片的能量束密度不均勻以及高能量離子引起的反濺射等因素,使得離子束輔助蒸發技術在生產應用中受到限制。通常對硫化鋅、氟化鎂等軟膜采用離子輔助技術以后,膜層的牢固性獲得了明顯的改善,但無論對軟膜或電子束蒸發的氧化物硬膜在抗激光損傷方面的效果均不明顯。 xAQtX=FoX+  
    ,BU;i%G&s  
    3.反應離子鍍膜法 ,S8欧美乱大交在线视频,国产精品视频一区二区下载,免费迷奸视频,丰满少妇被猛烈进入无码久久,欧美性爱视频在线观看