上海光機所在鈮酸鋰光子芯片有源無源集成研究方面取得新進展

發布:cyqdesign 2023-03-27 21:21 閱讀:1268
近期,中科院上海光機所強場激光物理國家重點實驗室研究團隊實現了鈮酸鋰薄膜有源無源的同片集成,以低損耗的穩定拼接,實現了鈮酸鋰光學芯片的完整功能集成。相關成果以“Monolithically integrated active passive waveguide array fabricated on thin film lithium niobate using a single continuous photolithography process”為題發表在Laser & Photonics Reviews上,并入選當期卷首插圖。 "g;^R/sfq  
8=Xy19<;t  
單晶鈮酸鋰(LN)具有寬的透明窗口、較高的折射率以及較大的聲光、非線性和電光系數,是一種極具吸引力的光子材料。將大塊LN晶體轉化為薄膜鈮酸鋰(TFLN),進一步使制備高性能集成光子器件成為可能,可用于經典和量子應用,如低損耗波導、高質量微諧振器、高速調制器和高效光變頻器等。為了實現集成有源光子器件,摻鉺鈮酸鋰薄膜最近被用于演示微腔激光器、波導放大器、量子發射器和量子記憶。然而,由于難以實現高精度對準、低損耗接口和可靠的鍵合,在摻雜稀土離子的鈮酸鋰薄膜上制備的有源器件與單晶鈮酸鋰薄膜上的無源光子器件的單片集成之前一直沒有實現。在這項工作中,該研究團隊首次展示了一個魯棒的低損耗的鈮酸鋰光子學接口,通過拼接有源和無源鈮酸鋰得到集成樣品,隨后,對集成器件的掩模進行單次連續光刻工藝,然后進行化學機械拋光,將掩模圖案轉移到TFLN襯底,實現單片集成有源無源波導陣列的制備。 oJE~dY$Q  
'H+H4(  
該研究通過拼接單晶和摻鉺的鈮酸鋰薄膜襯底,采用單一連續光刻工藝,實現了在拼接處有0.26 dB的耦合損耗的單片集成薄膜樣品。此外,研究團隊還制備了一個四通道波導放大器陣列,在1550nm波長和1530nm波長,每根摻鉺波導的凈增益分別為5 dB和8 dB。拼接無源和有源鈮酸鋰薄膜基板形成低損耗的光接口,實現無源和有源TFLN光子學的單片集成,集成后具有結構可任意設計,尺寸可調的特點,能夠實現按需集成,獲得實用化的鈮酸鋰光子集成芯片,這對于構建全功能鈮酸鋰光子回路具有重要意義,很大程度促進需要片上光源和放大器的大規模高性能光子器件的發展。該方法具有高可擴展性、高可靠性、高生產速率和高成本效益的優點。 9欧美乱大交在线视频,国产精品视频一区二区下载,免费迷奸视频,丰满少妇被猛烈进入无码久久,欧美性爱视频在线观看